AMEND RMC SYSTEM - Sistema Repositor de Massa Capilar
Amend kit RMC System Sistema Integrado Repositor de Massa Capilar
Não testados em animais /
O Sistema Integrado Repositor de Massa Capilar RMC System Amend, devolve a condição original dos cabelos. Promove uma proteção completa contra os danos futuros como tinturas, permanentes, calor do secador, chapinhas e agressões externas (mar, sol, piscina e radiação UV).
Principais benefícios:
* Cabelos 3x mais fortes.
* Reduz 65% a quebra dos fios e as pontas duplas.
* Recontrói a fibra capilar repondo 55% da massa capilarperdida sem influir no volume atual do cabelo.
* Aumenta o brilho e maciez instantaneamente.
* Extra Nutrição.
Indicação: Cabelos danificados e enfraquecidos.
Princípios ativos: Bioativo positivo.
Ação: Cabelos mais resistentes, redução de quebra e pontas duplas e repõe a massa capilar perdida.
Passo a Passo:
1º lave os cabelos com o Shampoo Repositor, massageando suavemente os cabelos com as pontas dos dedos;
2º enxágue e repita a operação. Retire o excesso d´água com uma toalha;
3º Aplique o Repositor de Massa Capilar de maneira uniforme, mecha por mecha;
4º deixe agir por 10 minutos. NÃO é NECESSÁRIO AQUECER COM TOUCAS OU SECADOR;
5º enxágue bem, retirando todo o produto do cabelo. Retire o excesso d´água com uma toalha;
6º finalize o processo aplicando o Balm Protetor Pós-Reposição nos cabelos úmidos mecha por mecha (comprimento do fio e pontas);
7º penteie como desejar;
8º não é necessário o enxágüe.
Volume/Capacidade:
1 Shampoo Repositor 300ml
1 Repositor de Massa Capilar 300g
1 Balm Protetor 300ml
COMPOSIÇÃO:
Shampoo Repositor Amend RMC System:
Aqua, Ammonium Lauryl Sulfate / Ammonium Laureth Sulfate, PEG-150 Pentaerythrityl Tetrastearate / PEG-6 Caprylic/Capric Glycerides / Aqua, Cocamide DEA, Glycol Distearate / Coco-Glucoside / Glyceryl Oleate / Glyceryl Stearate, Dimethicone / Laureth-4 / Laureth-23, Amodimethicone/ C11-15 Pareth-7/ Laureth-9 / Glycerin / Trideceth-12, Parfum, Glycerin / Hydroxyethyl Cetearamidopropyldimonium Chloride / Behenyl Alcohol / Cetearyl Alcohol / Isocetyl Alcohol / Quaternium-70 / Propylene Glycol / Amodimethicone / C12-14 SEC-Pareth-7 / C12-14 SEC-Pareth-5 / Disodium Lauriminodipropionate / Tocopheryl Phosphate / Dimethylpabamidopropyl Laurdimonium Tosylate / Benzophenone-3 / Lauroyl Lysine / Glycine / Acetyl Cysteine / Arginine HCL, Guar Hydroxypropyltrimonium Chloride, Methylchloroisothiazolinone / Methylisothiazolinone. Citric Acid.
Repositor de Massa Capilar Amend RMC System:
Aqua, Paraffinum Liquidum, Cetearyl Alcohol / Behentrimonium Methosulfate, Cetearyl Alcohol, Glycerin / Hydroxyethyl Cetearamidopropyldimonium Chloride / Behenyl Alcohol / Cetearyl Alcohol / Isocetyl Alcohol / Quaternium-70 / Propylene Glycol / Amodimethicone / C12-14 SEC-Pareth-7 / C12-14 SEC-Pareth-5 / Disodium Lauriminodipropionate Tocopheryl Phosphate/ Dimethylpabamidopropyl Laurdimonium Tosylate / Benzophenone-3 / Lauroyl Lysine / Glycine / Acetyl Cysteine / Arginine HCL, Cetrimonium Chloride, Cyclomethicone, Corylus Avellana Seed Oil, Parfum, Amodimethicone / C11-15 Pareth-7 / Laureth-9 / Glycerin / Trideceth-12, Disodium EDTA, BHT, Methylchloroisothiazolinone / Methylisothiazolinone, Linalool, Coumarin, Limonene.
Balm Protetor Pós-Reposição Amend RMC System:
Composição: Aqua, Cetyl Alcohol, Cetearyl Alcohol / Behentrimonium Methosulfate, Propylene Glycol, Amodimethicone, Amodimethicone / C11-15 Pareth-7 / Laureth-9 / Glycerin / Trideceth-12, Phenyl Trimethicone, Glycerin / Hydroxyethyl Cetearamidopropyldimonium Chloride / Behenyl Alcohol / Cetearyl Alcohol / Isocetyl Alcohol / Quaternium-70 / Propylene Glycol / Dimethyl, Methyl (Aminoethylaminoisobutyl) Siloxane / C11-C15 Ethoxylated Secondary Alcohol / Disodium Lauriminodipropionate Tocopheryl Phosphates / Dimethylpabamidopropyl Laurdimonium Tosylate / Oxybenzone / Lauroyl Lysine / Glycine/ Acetyl Cysteine/ Arginine HCl, Parfum, Cyclomethicone, Citric Acid, BHT, Methylchloroisothiazolinone / Methylisothiazolinone, Linalool, Coumarin, Limonene.
